摩爾定律由英特爾聯(lián)合創(chuàng)始人戈登.摩爾(Gordon Moore)提出,意思是說:當(dāng)價(jià)格不變時(shí),集成電路上可容納的晶體管數(shù)目,約每隔18個(gè)月便會(huì)增加一倍,性能也將提升一倍。不可否認(rèn),隨著繼續(xù)向下推進(jìn)新的制程節(jié)點(diǎn)正變得越來越困難,摩爾定律正在逐漸走向極限,但不可忽視的是,在摩爾定律依然在延續(xù)的今天,中國(guó)在制造工藝上與世界先進(jìn)工藝依然存在較大差距,如何縮小這其間的差距依然是不得不思考的問題。另外,在后摩爾時(shí)代,如何繼續(xù)推進(jìn)摩爾定律也是業(yè)界關(guān)注的問題。20170626-LY-1IMEC中國(guó)區(qū)總裁 丁輝文

多元化應(yīng)用需要多元化半導(dǎo)體技術(shù) 中國(guó)必須開發(fā)先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)

丁輝文認(rèn)為,講摩爾定律,其實(shí)首先是應(yīng)用推動(dòng)了芯片的成長(zhǎng),而在應(yīng)用當(dāng)中,主要是IoT、移動(dòng)通訊、云端服務(wù)這三大應(yīng)用市場(chǎng)。同時(shí)這三大應(yīng)用對(duì)半導(dǎo)體器件有不同的要求:一是IoT應(yīng)用,功耗在1mW到100mW;二是移動(dòng)通訊部分,功耗是100mW到10W量級(jí)上的需求;三是云端服務(wù),追求的是速度、速率、性能,在功耗上的需求可能在100W量級(jí)。“這就變成三大應(yīng)用推動(dòng)了整個(gè)半導(dǎo)體的研發(fā)以及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。”丁輝文說。

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經(jīng)??梢月牭揭环N聲音,即“中國(guó)是不是可以不用做先進(jìn)的工藝,既然追不上最先進(jìn)的技術(shù),是否只要做28nm就夠了”?對(duì)此,丁輝文表示,IoT應(yīng)用的功耗在毫瓦量級(jí),根據(jù)功耗、性能,晶圓片上的節(jié)點(diǎn)大概做到28nm就可以了,可以不一定遵循到摩爾定律5nm、3nm。但從移動(dòng)通訊市場(chǎng)來看,目前華為、中興等領(lǐng)先的公司已經(jīng)把手機(jī)芯片做到16nm,并且量產(chǎn),現(xiàn)在正在做7nm的量產(chǎn)。這說明,如果做手機(jī)芯片一定還要沿著16nm往前走。對(duì)于云端服務(wù)類市場(chǎng),也一定要沿著摩爾定律繼續(xù)往前走。“因此,是否要做先進(jìn)的工藝,就必須搞清楚對(duì)這三大應(yīng)用市場(chǎng)需要自主掌控的程度。”丁輝文說,如果只做IoT,那么做到28nm就可以了,但要在手機(jī)、服務(wù)器市場(chǎng)自主掌握,那設(shè)計(jì)工藝也要匹配到相應(yīng)的工藝節(jié)點(diǎn),這是核心的部分。

摩爾定律能持續(xù)發(fā)展到2025年,7nm之后如何延續(xù)摩爾定律?

目前,遵循摩爾定律,晶體管尺寸還在繼續(xù)縮小,不管是Logic,還是NAND,抑或DRAM,只不過到2016年,2DNDAN開始往3DNAND的方向走。20170626-LY-5“IMEC目前正在與合作伙伴一起做一個(gè)邏輯工藝的研發(fā)平臺(tái),現(xiàn)在已經(jīng)可以做到65nm、45nm、28nm、20nm、14nm、10nm。”丁輝文直言,在T-1階段,離現(xiàn)在兩年的時(shí)間,IMEC做的是5nm、7nm的研究,7nm幾乎完成。再往前兩年,IMEC還在做2nm、3nm的研究,以致于最新的研究導(dǎo)入的技術(shù)還在探討2nm。“換句話說,我們的整個(gè)研發(fā)平臺(tái)是從小于2nm做到5nm、7nm。”

據(jù)介紹,IMEC還打造了一個(gè)完整的產(chǎn)業(yè)生態(tài),包括Intel、三星、TSMC、海思、高通、ARM等公司。“我們幾乎吸引了全部設(shè)備公司和材料公司,以及全球大概600家系統(tǒng)級(jí)廠商一起研究未來的器件,推動(dòng)整個(gè)科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展。”丁輝文說。20170626-LY-6丁輝文稱,實(shí)際上,每當(dāng)摩爾定律走到一個(gè)難走的狀態(tài),就會(huì)出現(xiàn)一些新的技術(shù)。比如,2013年、2014年如果沿著28nm再往前周,平面的工藝幾乎走到盡頭,摩爾定律可能就偏離摩爾定律了,這時(shí)就是出現(xiàn)了三維的FinFET,到2020年,當(dāng)往前走到7nm,你會(huì)發(fā)現(xiàn)這個(gè)路也走不通,這時(shí)可能會(huì)有其它的方法,如SiGa channel、LNW出現(xiàn)。這使得半導(dǎo)體器件能繼續(xù)沿著摩爾定律往前走。20170626-LY-7另外,目前MRAM和RRAM、PCM這些新的Memory已經(jīng)到了非常靠近產(chǎn)品化和產(chǎn)業(yè)化的狀態(tài),加上新的架構(gòu),也能使摩爾定律繼續(xù)往前延伸。在計(jì)算部分,業(yè)界也還在不斷尋找是否有新的產(chǎn)品和技術(shù),新的結(jié)構(gòu)、新的材料能夠讓半導(dǎo)體器件繼續(xù)往前延伸。另外,IMEC也在研究神經(jīng)形態(tài)計(jì)算、quantum computing,未來晶體管有可能走不下去,用這個(gè)方法去替代,形成整個(gè)產(chǎn)業(yè)界對(duì)摩爾定律的追求。20170626-LY-8丁輝文稱,總的來講,摩爾定律一直在向前延伸,當(dāng)摩爾定律偏離方向,通過新的產(chǎn)品和技術(shù)、新的架構(gòu),新的材料,可以再回到摩爾定律上,這在10nm、7nm工藝節(jié)點(diǎn)都可能發(fā)生。再往前走到5nm工藝節(jié)點(diǎn),EUV會(huì)把5nm以下的器件的成本降低,如果不行,又會(huì)通過新的方案,比如新的機(jī)器學(xué)習(xí),量子計(jì)算等新的方案回到摩爾定律。在他看來,摩爾定律將會(huì)持續(xù)到2025年以后。20170626-LY-920170626-LY-10

在制造工藝上,中國(guó)如何趕超世界先進(jìn)技術(shù)?

目前在制造工藝上,中國(guó)與世界先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)依然存在較大差距。那么,中國(guó)該如何趕超世界先進(jìn)水平的思路?對(duì)此,丁輝文提出了自己的觀點(diǎn)和對(duì)策。20170626-LY-11一是邏輯代工對(duì)標(biāo)TSMC——集中火力,(緊追摩爾+客戶培養(yǎng))*VIRTUAL IDM。即由代工廠負(fù)責(zé),集中央到地方資金支持。技術(shù)來源則可參加IMEC會(huì)員,與全球所有公司享有同等權(quán)利,IP、數(shù)據(jù)、團(tuán)隊(duì)參與研發(fā),目前IMEC研發(fā)5nm。這樣幾年后,有機(jī)會(huì)縮短甚至趕超。

在商業(yè)模式上,一方面是市場(chǎng)化,以市場(chǎng)和股東利益為主導(dǎo),采用pure play foundry模式,這種模式廣泛被國(guó)際接受。由于客戶和研發(fā)的技術(shù)、時(shí)間點(diǎn)和經(jīng)濟(jì)指標(biāo)匹配難,追趕速度可能慢。另一方面是國(guó)家戰(zhàn)略,以擁有和趕超先進(jìn)技術(shù)為主導(dǎo),采用Virtual IDM模式。這種模式投資較大,效率較低,但是由于客戶和研發(fā)的技術(shù)、時(shí)間點(diǎn)和經(jīng)濟(jì)指標(biāo)匹配較容易,追趕速度可能快。在盈利方面,則可通過投資被扶持的設(shè)計(jì)公司的成功而獲利,如UMC-聯(lián)發(fā)科模式。20170626-LY-12對(duì)于設(shè)計(jì)公司來說,則可以從傍大款模式和山寨模式轉(zhuǎn)向VIRTUAL IDM模式。丁輝文解釋稱,大款意即獨(dú)家或單一市場(chǎng)訂單就能支撐某個(gè)供應(yīng)商的生存,如華為支撐海思,另外一種就是巨型終端公司,如華為、OPPO、VIVO等,還有一種是代工廠,如SMIC、華虹。在丁輝文看來,設(shè)計(jì)公司一方面可以拼創(chuàng)新,包括與終端公司合作,定義和開發(fā)未來N年使得終端產(chǎn)品有市場(chǎng)優(yōu)勢(shì)(絕活)的核心技術(shù),以及與Foundry合作形成特殊工藝(通常同時(shí)帶來成本優(yōu)勢(shì)),這將會(huì)產(chǎn)生巨大競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),同時(shí)也需要長(zhǎng)期積累。另一方面可以拼成本,這只是入門戰(zhàn)略,市場(chǎng)變化往往很快,或紅海一片,因此,能否持續(xù)研發(fā),并建立穩(wěn)定制造等產(chǎn)業(yè)鏈關(guān)系是關(guān)鍵。

二是研發(fā)中心對(duì)標(biāo)IMEC,借力IMEC。比如,利用IMEC,在中國(guó)成立IMEC研究中心,在IMEC的研發(fā)基礎(chǔ)上做加法,避免重復(fù)投資,重復(fù)研發(fā)。20170626-LY-13

“半導(dǎo)體工藝尺寸的縮小和摩爾定律能持續(xù)發(fā)展到2025年以后,中國(guó)半導(dǎo)體有成功的歷史機(jī)遇,巧用國(guó)際和國(guó)內(nèi)資源,中國(guó)有機(jī)會(huì)在各領(lǐng)域趕超世界先進(jìn)水平。” 丁輝文如是說。